| 「クリアラスト モイストベースUV （保湿メイク下地） SPF25 20g」は、乾燥によるカサつきを防ぎ、小じわや毛穴をカバーしてうるうるの赤ちゃん肌に仕上げる保湿効果下地です。みずみずしい美容液のようなつけ心地で、うるおってなめらかな肌にととのえファンデーションをきれいに仕上げます。三層保湿システム（リポソーム美容液・トリプルヒアロカプセル・植物性エモリエントオイル）が、肌に深く・長くうるおいを届けしっとりうるうるの肌を保ちます。ビワ葉エキス（保湿成分）配合。SPF25・PA++、パラベンフリー・無鉱物油・無香料。 |
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| 化粧水や乳液でお肌をととのえたあと、適量（パール粒大）をお顔に優しくなじませてください。 |
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●傷やはれもの・湿しん・かぶれ・ただれ・色素異常などの症状がある部位にはお使いにならないでください。
●使用中、赤み・はれ・かゆみ・しげきなどの異常があらわれた場合、又は、使用した肌に直射日光があたり上記のような異常があらわれた場合は、そのまま使用を続けますと症状を悪化させることがありますので、ご使用を中止し、皮フ科専門医等にご相談ください。
●乳幼児の手の届かないところに保管してください。
●極端に高温、又は低温の場所、直射日光のあたる場所には保管しないでください。 |
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| 水、メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、グリセリン、テトラエチルヘキサン酸ペンタエリスリチル、ペンチレングリコール、ステアリン酸ソルビタン、トリエチルヘキサノイン、BG、グリセリルグルコシド、ジフェニルシロキシフェニルトリメチコン、リンゴ酸ジイソステアリル、スクワラン、ジメチコン、タルク、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、オリーブ油、グリチルリチン酸2K、トコフェロール、ヒアルロン酸Na、ビワ葉エキス、ラウロイルグルタミン酸ジ（フィトステリル/オクチルドデシル）、加水分解ヒアルロン酸、（アクリル酸ヒドロキシエチル/アクリロイルジメチルタウリンNa）コポリマー、（アクリレーツ/メタクリル酸ポリトリメチルシロキシ）コポリマー、（ジメチコン/ビニルジメチコン）クロスポリマー、PEG-3ジメチコン、アセチルヒアルロン酸Na、イソステアリン酸PEG-60グリセリル、イソステアリン酸ソルビタン、キサンタンガム、クエン酸、クエン酸Na、シクロペンタシロキサン、ジミリスチン酸Al、シリカ、ダイマージリノール酸（フィトステリル/イソステアリル/セチル/ステアリル/ベヘニル）、デキストリン、ハイドロゲンジメチコン、ハイブリッドサフラワー油、ベヘニルアルコール、ポリソルベート60、ポリメチルシルセスキオキサン、ヤシ脂肪酸スクロース、水添レシチン、フェノキシエタノール、アルミナ、マイカ、合成金雲母鉄、酸化チタン、酸化鉄、水酸化Al |
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