【DIXTOWAJ(ディストワジェイ) BASE COVER【毛穴隠し下地】 25g】美容 コスメ 化粧品 メイクアップ 化粧下地 毛穴カバー 毛穴隠し 乾燥 保湿
【DIXTOWAJ(ディストワジェイ) BASE COVER【毛穴隠し下地】 25g】美容 コスメ 化粧品 メイクアップ 化粧下地 毛穴カバー 毛穴隠し 乾燥 保湿
【DIXTOWAJ(ディストワジェイ) BASE COVER【毛穴隠し下地】 25g】美容 コスメ 化粧品 メイクアップ 化粧下地 毛穴カバー 毛穴隠し 乾燥 保湿

品名
DIXTOWAJ(ディストワジェイ) BASE COVER【毛穴隠し下地】 25g
商品紹介

●微粒子パウダーが肌をカバー
●隠しながらスキンケアできる、うるおい肌(保湿)成分配合
●パウダー配合
●微粒子パウダーがカバーし、同時にスキンケアもできる化粧下地です。
●また、パウダー(シリカ)を配合してますので、Tゾーンなどテカリが気になる部分の余分な皮脂を、お化粧崩れしにくく、さらっと感をキープしてメイクも長持ちします。
●さらに、5種類のうるおい肌(保湿)成分(ヒアルロン酸Na 、レモングラス葉/茎エキス、パッションフルーツエキス、プラセンタエキス、加水分 解コラーゲン)を配合。
●うるおい成分がうるおいをキープ。

サイズ・重量
容器サイズ 直径6.2×高さ4.3cm
内容量 25g
商品説明
商品名 DIXTOWAJ(ディストワジェイ)BASE COVER【毛穴隠し下地】
商品番号 811584

全成分 ジメチコン、(ジメチコン/ビニルジメチコン)クロスポリマー、ポリメタクリル酸メチル、(ビニルジメチコン/メチコンシルセスキオキサン)クロスポリマー、シクロペンタシロキサン、ジメチルシリル化シリカ、トリエチルヘキサノイン、トリメチルシロキシケイ酸、クダモノトケイソウ果実エキス、ヒアルロン酸Na、レモングラス葉/茎エキス、タチジャコウソウ花/葉エキス、プラセンタエキス、加水分 解コラーゲン、トリエトキシカプリリルシラン、シリカ、ハイドロゲンジメチコン、メチコン、水、BG、テトラヘキシルデカン酸アスコルビル、フェノキシエタノール、酸化チタン、タルク、酸化鉄、水酸化Al

メーカー アスター企画
区分 化粧品/日本製
JAN 4589507810160

ご使用方法
●パール一粒程度を手に取り、少しずつ薄く顔全体に伸ばしていきます。
●顔の中心から外側に向かって少しずつ量を調整しながら、毛穴や小ジワを埋めるように塗ってください。
広告文責
(有)パルス 048-551-7965

『通常土日祝日を除く1週間以内に出荷の予定ですが
欠品やメーカー終了の可能性もあり、その場合は
別途メールにてご連絡いたします』


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